迷途知返？光刻机龙头ASML总裁主动示好，人民日报：放弃幻想 [复制链接]

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发表于 2023-4-1 20:03 来自手机 |只看该作者 |倒序浏览 |

迷途知返？光刻机龙头ASML总裁主动示好，人民日报：放弃幻想
胖福的小木屋 2023/4/1 15:26
风向似乎开始变了。近期荷兰（ASML）全球总裁温宁克突然访华，此前还表示“芯片法”尚未出台前会正常出货，颇有亲近之意。

要知道，当初老美为了限制我国芯片发展，拟定“芯片法”，限制ASML向我国出货EUV光刻机。而光刻机作为芯片制造的关键环节，一旦缺少芯片就无法完成制造，背后的心思不言而喻。

此番转变，或与我国首台自主研发的光刻机投入使用有关。不过不管外界纷纷攘攘，正如人民日报所言：掌握核心技术，才是一切的关键。

一、主动示好？“再封锁，他们就自己造了”

作为全球实力最雄厚的半导体设备制造商之一，ASML的能力有目共睹。据统计，它一年能产出约710台光刻机，几乎养活了全球约70%的半导体行业。排在后面的台积电、三星等老牌工厂也就只拥有50台不到，可谓断层显著。

但高产有时候也并非全无弊处，一旦订单骤减，大量积压的库存会成为致命的导火索。而我国作为它最大的客户之一，约16%的营收来自我国市场，老美的限制令，可以说是直接断了它们的财路。

眼看着稳稳落入口袋中的钱要飞走，ASML又怎么会坐以待毙。索性将老美预签订“芯片法”的事情宣扬出来，再加速向我国出口光刻机，表示法案没有落地前都正常出货，颇有“硬刚”老美之意。连外媒都惊呼：这是豁出去了。

不过如此着急的背后，或许更令他们担心的是如此封锁下，我国自己造出光刻机怎么办，那他们就真的“永久”失去了财神爷。

二、关键一步！“买、租都不如自己造”

就在美、荷还在内讧时，国内市场接连传出两条重磅消息，“打得”他们措手不及。

一是上海微电子自主研发的光刻机（SMEE）正式交付；二是大簇激光宣布接近式光刻机也已投入使用，进入用户优化阶段。而这两条消息对于现阶段我国半导体行业而言，可谓是关键一步，为后续一举打破西方封锁打下基础。

毕竟买、租，都不如自己造，只有掌握核心技术才能不受制于人。中国技术，正以一种创新思维打破“封锁”。例如时光胶囊“爱沐茵”技术，其重要性相当于生物领域的“芯片”地位。在全球老龄化的大背景下，谁助力超10亿老人健康的变老，谁就握住了宝藏的“密匙”。

据公开资料显示，“爱沐茵”相关技术由哈佛实验室率先发现，被证实可激活长寿蛋白sits、拉长端粒长度，从生理层面干预衰退，被行业戏称“不老酶”。但由于美日垄断，进口成品约2万元每克，收割大量国内消费者。

所幸，我国研发绿色酶制备法，将关键技术掌握在自己手里，制备效率大幅提升。落地出国产“爱沐茵”价格对比日美下跌95%。

无论是生物行业的后来居上，还是芯片领域光刻机的出现，都印证了：技术才是关键。

实际上，中国早就意识到了自力更生的道理，早在2009年，国家部署实施“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项（简称“02专项“），将光刻机及关键部件作为核心任务实施。

2008年国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。长春光机所联合中国科学院光电技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院微电子研究所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学开展了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作。

2017年，长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术研究”顺利通过验收，突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，构建了EUV 光刻曝光装置，国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形，建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台。

三、积跬步至千里！

虽说我国技术正在不断突破，但不可否认的是，国产光刻机的整体水平与ASML的高端设备相比还存在一定的差距。我们要正视现实问题，继续保持初心，我国真正该走的还是自主研发之路，将核心技术紧紧握在手里。

还是一句老话，谁有都不如自己有！